- 2017-3-4PVD磁控測射原理
定義 濺射鍍膜是指在真空室中,利用荷能粒子轟擊靶材表面,通過粒子動量傳遞打出靶材中的原子及其它粒子,并使其沉淀在基體上形成薄膜的技術。濺射鍍膜技術具有可實現大面積快速沉積,薄膜與基 ...
- 2017-3-4鼎利新H涂層研發成功
隨著涂層行業日益激烈的競爭,鼎利涂層公司在2016年8月份的時候研發出全新的H涂層,新的H涂層 比老涂層具有更多的過渡層,更高的表面硬度和結合力的特點。 多層結構 ...
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